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光合声申请可塑电磁波光场叠加分布式成像专利,实现了对不同物体、画面部分区域的分别成像

0次浏览     发布时间:2025-04-05 21:02:00    

金融界2025年4月5日消息,国家知识产权局信息显示,北京光合声智能科技有限公司申请一项名为“一种基于可塑电磁波光场叠加分布式成像的方法及装置”的专利,公开号CN 119758587 A,申请日期为2024年12月。

专利摘要显示,本发明实施例提供一种基于可塑电磁波光场叠加分布式成像的方法及装置,属于光学与光电子学领域,该方法包括:获取待测画面;对所述待测画面进行解析分类得到效应参数信息,所述效应参数信息包括电磁特性和干扰因素;根据所述效应参数信息确定可塑波元件和光场调控参数;根据所述可塑波元件和光场调控参数生成可塑波矩阵,所述可塑波矩阵为多个可塑波元件组成的电磁矩阵,用于生成光场;根据所述光场调控参数对可塑波矩阵进行聚集得到聚焦参数;根据所述聚焦参数设置所述可塑波元件得到区域性光效应对应的画面,该方法实现了对不同物体、画面部分区域的分别成像。

天眼查资料显示,北京光合声智能科技有限公司,成立于2024年,位于北京市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析,北京光合声智能科技有限公司共对外投资了2家企业,专利信息1条,此外企业还拥有行政许可1个。

本文源自金融界

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